今年，中國人民最受"中國核心"問題的影響，因為美國對華為的不友好新聞占據了頭條，所以也讓很多人關注芯片問題，就像大家都在擔心芯片問題一樣，中國的芯片行業終于傳來了好消息！

中國國內光刻機迎來了新的突破

正因為華為的消息，每個人都知道中國在芯片上的缺點，但你不知道的是，如果你想真正突破對芯片的封鎖，最重要的是光刻技術，而高端光刻機被稱為世界上最先進的儀器之一。

目前，荷蘭領先的光刻技術公司是ASML，甚至可以說ASML壟斷了這一技術。不久前，荷蘭的ASML總裁說，中國永遠不會制造出最高端的光刻機！

光刻機是芯片制造中不可缺少的核心設備，但目前我國在光刻機技術上依賴國外進口，因此，中國要想在芯片技術上取得突破，首先必須突破光刻技術。

突破光刻機有多難？

在中國北斗定位導航系統第三芯片成功突破22 nm限制后，上海微電子技術在中國也被曝光。中國突破了22 nm規格光刻機。這一消息鼓舞了整個高科技界！

說到這一點，了解更多技術的朋友可能會說，有什么值得慶祝的呢？荷蘭ASML公司的光刻機技術是5nm，而我國22 nm與世界前5nm之間仍有很大差距。

事實上，光刻技術很難突破，否則就不會被稱為"現代光學產業的花"。在22 nm之前，我國的光刻機技術仍停留在90 nm，不要低估這22 nm的突破。目前，許多國家還沒有征服50 nm的關鍵，現在中國的成就相當于實現了絕大多數國家尚未實現的目標。

中國核心"將推進

為了突破中國在半導體芯片領域的封鎖，今年上半年，國家在半導體芯片領域投入了600億美元，國家也十分重視"中國核心"。

事實上，每一項科技研究都不可能一蹴而就，雖然中國起步較晚，但在美國的沉重壓力下，中國也取得了階段性的勝利，雖然距離世界頂級光刻機還有一段距離，但我國也在積極縮小這一差距，我相信我們的"中國核心"已經越來越接近我們了！