FinFET( 鰭式場效應晶體管）是目前晶片合同行業的一項出色的核心技術。臺積電甚至打算將它一直應用到 3nm 時代。

然而，三星在過去四年中一直深陷于 FinFET 專利侵權的泥潭，直到最近才被關閉。

訴訟原告是韓國科學技術學院（KAIST)，該學院于 2001 年在美國和韓國申請了與 FinFET 技術相關的專利，該專利是由韓國科學技術研究院與首爾大學教授李鐘浩合作開發的。

2016 年 11 月 29 日，韓國科學技術學院對德克薩斯州的三星、高通和 Gexin(GlobalFounderies) 提起了 FinFET 專利侵權訴訟。據說英特爾支付了相關的 "保護費"。

2018 年 6 月和 2019 年 2 月，KAIST 兩次起訴三星，聲稱其 7nm、8nm、10 nm、11 nm 和 14 nm 的應用程序處理器都是侵權行為，并要求賠償 4 億美元。今年 2 月，法院下令三星支付 2 億美元的賠償。

目前，案件已經結案，和解的細節尚不清楚。