低調(diào)的國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)巨頭,突破5nm技術(shù)瓶頸。
芯片制造工藝復(fù)雜,三大工藝包括光刻、蝕刻、沉積三大工序,十幾個(gè)工藝,2000~5000工序。可見(jiàn)半導(dǎo)體行業(yè)的門檻相當(dāng)高,使起步較晚的我國(guó)在芯片領(lǐng)域仍處于劣勢(shì)。幸運(yùn)的是,經(jīng)過(guò)多年的不斷追趕,中國(guó)正在逐步打破壟斷,特別是在全球領(lǐng)先地位的蝕刻機(jī)械領(lǐng)域。
中國(guó)蝕刻機(jī)領(lǐng)域的領(lǐng)先企業(yè)是中微半導(dǎo)體。在回答投資者的提問(wèn)時(shí),中衛(wèi)官員表示,該公司的蝕刻設(shè)備已應(yīng)用于7nm和5nm的集成電路加工和制造生產(chǎn)線。這表明,中國(guó)和微半導(dǎo)體一直處于世界前列,其蝕刻機(jī)贏得了長(zhǎng)江存儲(chǔ)公司、臺(tái)積電和其他巨頭臺(tái)積電5nm芯片的青睞,這是中國(guó)和微半導(dǎo)體的貢獻(xiàn)。
從65納米到5納米,從追求者到領(lǐng)導(dǎo)者,中微半導(dǎo)體花了11年的時(shí)間才完成。中國(guó)半導(dǎo)體成立于2004年,并于2007年制造了第一臺(tái)中國(guó)共產(chǎn)黨刻蝕設(shè)備。2019年,中國(guó)半導(dǎo)體第一臺(tái)5nm蝕刻機(jī)成功交付,打破了國(guó)外企業(yè)在蝕刻機(jī)領(lǐng)域的壟斷地位。如今,中國(guó)占據(jù)了80%的蝕刻機(jī)市場(chǎng),被中、微型半導(dǎo)體占據(jù)。
中衛(wèi)半導(dǎo)體創(chuàng)始人尹志耀為中衛(wèi)半導(dǎo)體的快速發(fā)展做出了巨大貢獻(xiàn)。尹志耀是全球蝕刻業(yè)的一位人物。十多年來(lái),他一直在應(yīng)用材料、LAM等蝕刻設(shè)備領(lǐng)域工作,并發(fā)揮了重要作用。
據(jù)報(bào)道,尹志耀在美國(guó)擁有200多項(xiàng)專利和87項(xiàng)專利。尹志耀豐富的理論和實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)已成為中國(guó)和微半導(dǎo)體迅速發(fā)展的關(guān)鍵。
此外,尹志耀還引入了精英團(tuán)隊(duì)。多年來(lái),中國(guó)和微半導(dǎo)體公司一直沒(méi)有忽視研發(fā)工作。2019年,該公司700多名員工中,有400多人是研發(fā)和工程技術(shù)人員。同年,該公司在研發(fā)方面投入了4.2億元人民幣,目前正處于不斷增長(zhǎng)的狀態(tài)。
因此,中國(guó)半導(dǎo)體和微半導(dǎo)體的迅速崛起,成為一個(gè)不容忽視的產(chǎn)業(yè)。據(jù)報(bào)道,中國(guó)微半導(dǎo)體一臺(tái)蝕刻機(jī)已以2000萬(wàn)元的價(jià)格售出。
2019年,中衛(wèi)半導(dǎo)體的收入為19.47億元,顯著增長(zhǎng)。兩年前,這一數(shù)字仍為9.72億元。今年上半年,中國(guó)和微半導(dǎo)體的收入達(dá)到9.78億元,其在疫情中的表現(xiàn)仍然不錯(cuò)。
目前,中衛(wèi)公司已成功上市,市值已達(dá)945億元,業(yè)績(jī)良好。接下來(lái),中國(guó)半導(dǎo)體將繼續(xù)開(kāi)發(fā)3nm刻蝕設(shè)備,以獲得更高的話音能力。目前,為了實(shí)現(xiàn)獨(dú)立可控的芯片,顯然需要更多的企業(yè),如中、微半導(dǎo)體。
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